针对阿斯麦(ASML)而言,她们已经产品研发更优秀的光刻技术,这也是促进集成ic加工工艺继续前行的关键驱动力。

ASML是全世界现阶段唯一能生产制造极紫外光刻机的生产商,其在发布TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C这2款极紫外光刻机以后,仍在产品研发更优秀、高效率高些的极紫外光刻机。

从外国媒体的报导看来,除开NXE:3600D,阿斯麦仍在产品研发高数值孔径的极紫外光刻机NXE:5000系列产品,设计方案早已基础进行。

外国媒体在报导中也表明,尽管阿斯麦NXE:5000高数值孔径极紫外光刻机的设计方案已基础进行,但商业还需时日,预估在2022年刚开始商业。

做为一款高数值孔径的极紫外光刻机,NXE:5000系列产品的数值孔径,将提升 到0.55,阿斯麦现阶段已发布的TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C这2款极紫外光刻机,数值孔径为0.33。

在前不久举行的线下活动中,欧州微电子技术研究所IMECCEO兼首席总裁Luc Van den hove线上上演说中表明,在与ASML企业的协作下,更为优秀的光刻技术早已获得了进度。

Luc Van den hove表明,IMEC的总体目标是将下一代高像素EUV光刻工艺高NA EUV光刻工艺商业化的。因为先前得光刻技术竞争者早早已相继撤出销售市场,现阶段ASML掌握着全世界关键的优秀光刻技术生产能力,近些年,IMEC一直在与ASML科学研究新的EUV光刻技术,现阶段总体目标是将加工工艺经营规模变小到1nm及下列。